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AEC-Q100 stress实验详解#9——HTOL(高温工作寿命测

时间:2026-04-28 20:06来源: 深芯 作者:ictest8_edit 点击:

 


AEC-Q100合集9. HTOL(High Temperature Operating Life,高温工作寿命测试)

· 实验目的:
HTOL是AEC-Q100标准中B组(加速生命周期模拟测试)的核心项目(B1项),主要用于评估芯片在长期高温工作状态下的可靠性,核心目标包括:

模拟实际工作寿命:通过高温加速老化,验证芯片在10-15年车规寿命周期内的功能稳定性。

暴露潜在缺陷:激发制造工艺缺陷(如金属互连薄弱点、氧化层缺陷)和设计缺陷(如热管理不足)
 
满足零失效要求:确保芯片在极端工况(如发动机舱高温环境)下仍能保持功能完整。

实验方法:
· 
HTOL需严格遵循JEDEC JESD22-A108标准,关键步骤如下:

测试条件:

温度与时间(根据器件等级选择):

等级 测试温度(Ta) 时间 等效实际寿命(0.7eV活化能)
Grade 0 150℃ 1000小时 ≈10年(150℃下加速)
Grade 1 125℃ 1000小时 ≈10年(125℃下加速)
Grade 2 105℃ 1000小时 ≈5年(105℃下加速)

电压应力:施加最大工作电压(通常为额定电压的1.1倍,也允许更高的电压,以便从电压和温度中获得寿命加速,但是电压不能超过absolute maximum rated voltage)

工作状态:芯片需全程通电并运行典型负载

样品要求:

数量:77颗 × 3个非连续生产批次(共231颗)

预处理:对于含有flash的芯片需要先执行flash 10K擦写实验,跑完以后在flash中编写checkboard

常见设备:

DL601/602:适用小功率型MCU

MCC LC2:适合大功率SOC,支持独立温控

stress内容:

对于含有flash的芯片,在HTOL过程中需要不断对flash进行读操作(模拟客户使用场景)

SCAN:数字部分

MBIST:RAM测试

各个模拟部分

失效机制
 
电迁移(Electromigration)

机理:大电流导致金属互连线(如Cu/Al)原子迁移,形成空洞或晶须,引发开路或短路。

案例:电源网络电阻升高导致电压降超标。

栅氧退化(Gate Oxide Degradation)

TDDB(经时介质击穿):高温下栅氧层缺陷积累,最终击穿(如CMOS逻辑错误)。

HCI(热载流子注入):高电场下载流子注入栅氧,导致阈值电压漂移。

焊点/键合失效
 
焊料蠕变:高温下SnAgCu焊料疲劳裂纹,BGA焊球断裂。

键合线脱落:Au/Al键合界面因CTE不匹配分层。

参数漂移
 
漏电流增加:PN结退化或离子污染导致功耗上升。

频率下降:晶体管驱动能力因NBTI(负偏压温度不稳定性)降低。

 
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