每个半导体产品的制造都需要数百个工艺,整个制造过程分为八个步骤:晶圆加工 - 氧化 - 光刻 -刻蚀 - 薄膜沉积 - 互连 - 测试 - 封装。 第一步 晶圆加工 所有半导体工艺都始于一粒沙...
芯片的制造工艺 1、IC产业链 2、Wafer的加工过程 3、IC的封装过程芯片的测试 4、芯片工艺制造小结...
主要内容 功率集成电路兼容工艺概况 PIC的隔离技术 PIC功率器件PN结的终端技术 主流工艺Bipolar-CMOS-DMOS技术 SPIC工艺例子 HV-IC工艺例子...
芯片一般是指集成电路的载体,也是集成电路经过设计、制造、封装、测试后的结果,通常是一个可以立即使用的独立的整体。如果把中央处理器CPU比喻为整个电脑系统的心脏,那么主...
当今市场上几乎所有的电子商品,或多或少都会用几片集成电路(IC)来控制各种功能,复杂的如电脑中的CPU,GPU (图形处理器) ,简单的如电池中防止过度充电的控制电路。不论多复...
一、焊后PCB板面残留多板子脏 1.FLUX固含量高,不挥发物太多 2.焊接前未预热或预热温度过低(浸焊时,时间太短) 3.走板速度太快(FLUX未能充分挥发) 4.锡炉温度不够 5.锡炉中杂质太多或锡的...
SCR结构可控硅及闩锁效应 一、SCR可控硅介绍 可控硅又称晶闸管(thyristor),最早由美国贝尔实验室发明,是由三个及以上pn结组成、具有开关特性的半导体器件的总称,通常使用最多的是...
本书详细介绍了半导体测试技术,主要针对晶圆测试技术,如PCM相关参数测试,方块电阻测试,晶圆缺陷等,另外详细讲解了测试技术,是本不错的半导体测试方面的参考书籍,非常值...
2-2-4光刻工艺 1光刻的目的在氧化层和金属化层上刻蚀出各种图形,以便下一步进行定域扩散或引出电极。(形成图形) 2光刻的工艺过程:(图27 ) 图27光刻的工艺过程示意 3 光刻的原...
图17共发射极输出特性的三个工作区 3输出特性曲线的几种异常情况 1)大电流特性差(图18a)2)小电流特性压缩(图18b) 3)饱和压降大(图18c)4)特性曲线倾斜(图18d) 5)两段饱和...